Polistren (PS) katkılı Poli Vinil Alkol (PVA) dağılımının film oluşum süreci foton geçirgenliği (PT) teknikle incelenmiştir. Filmler, oda sıcaklığında optik ölçümler için ağırlıkça %10 ile %100 arasında değişen farklı bileşimlerde PS ve PVA dağılımının bir karışımı olarak hazırlandı. Film oluşum süreci, PT kullanılarak numunelerden geçen ışık şiddeti (Itr) ölçülerek izlendi. Film oluşumunun iki aşamada gerçekleştiği gözlemlendi: boşluk kapanması ve difüzyon aşamaları. PVA kafesinde PS parçacıklarının dağılımını yorumlamak için süzme modeli kullanıldı. Süzme teorisine göre, perkolasyon eşiği Rc 0,4 ve PVA'nın hacim kesri için 1.01 tahmin edilen değer olan 1,00'e çok yakın bulunmuştur.
Film forming of the polystrene (PS) doped Poly Vinyl Alcohol (PVA) particles were studied by photon transmission (PT) technique. The films were prepared as a mixture of PS and PVA particles at different compositions ranging from 10 to 100 wt % for the optical measurements at room temperature The film formation process was monitored by measuring the transmitted light intensity (Itr) from the samples using PT. The film formation includes two stages: void closure and interdiffusion stages. Percolation model was employed to interpret the distribution of PS particles in PVA lattice. Percolation threshold, Rc, was found to be as 0.4 and the volume fraction of PVA as a power law with exponent 1.01 which is very close to the predicted value, 1.00, by the percolation theory.
Primary Language | English |
---|---|
Subjects | Engineering |
Journal Section | Articles |
Authors | |
Publication Date | August 31, 2021 |
Published in Issue | Year 2021 Issue: 25 |