Bu çalışmada, benzilamin ince
filmleri ile kovalent bir şekilde modifiye edilmiş yüzeyler üzerinde
sitrat-kaplı altın nanopartiküllerin üretimi amaçlanmıştır. Bu amaçla ilk
olarak, p-tipi Si (100) elektrotlar aril diazonyum tuzlarının elektrokimyasal
indirgenmesi (+N2-benzilamin) ile benzilamin tabakaları ile modifiye
edilmiştir. Daha sonra, modifiye edilmiş elektrotlar altın nanopartikül içeren
bir çözelti içine daldırılmıştır. Son olarak, Au nanopartiküller elektrostatik
olarak pozitif yüklü benzilamin tabakaları ile birleştirilmiştir. Benzilamin
filmlerin özellikleri voltametrik yöntemler kullanılarak incelenmiştir.
Modifiye edilmiş p-tipi Si (100) yüzeylerinin bariyer özellikleri redoks probların
varlığında (Fe(CN)63- ve Ru(NH3)63+)
dönüşümlü voltametri kullanılarak çalışılmıştır. Ayrıca elde edilen sonuç
filmlerin karakterizasyonu ve morfolojik analizi taramalı elektron mikroskopu
(SEM) ile araştırılmıştır.
In this study, we aimed to assembly of citrate-capped
gold nanoparticles on benzylamine thin films that covalently modified surfaces.
For this purpose, firstly, p-type Si (100) electrodes were modified with
benzylamine layers by electrochemical reduction of aryl diazonium salts (+N2-benzylamine). Then, the
modified electrodes were submerged in a solution containing Au nanoparticles.
Finally, Au nanoparticles were electrostatically assembled on positively
charged benzylamine layers. The properties of the benzylamine films were
investigated using voltammetric methods. The barrier properties of modified
p-type Si (100) surfaces were studied by cyclic voltammetry in the presence of
redox probes (Fe(CN)63- and Ru(NH3)63+).
Also the final films generated for characterization and morphological analysis
were examined by scanning electron microscopy (SEM).
Primary Language | Turkish |
---|---|
Journal Section | Research Article |
Authors | |
Publication Date | June 1, 2019 |
Submission Date | January 10, 2018 |
Published in Issue | Year 2019 Volume: 22 Issue: 2 |
This work is licensed under Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International.