In this study, the frequency
dependence of the dielectric properties of Au/RGO/p-Si
metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitor with silicon nitride (RGO)
interfacial oxide layer have been investigated by taking experimental
capacitance-voltage (C-V) and conductance-voltage (G/w-V) measurements at 200, 300, 500 and 700 kHz frequencies. Dielectric constant (ε'), dielectric loss (ε"), dielectric loss tangent (tanδ), ac
electrical conductivity (σac), real and imaginary part
of electric modulus (Μ' and M") values of the MOS capacitor have been
determined in the frequency range of 10 kHz-1 MHz. The obtained results clearly
show that the dielectric parameters are frequency dependent. The values of the
ε' and ε'' decrease with increasing frequency. But the values of the σac,
Μ' and Μ" increase with
increasing frequency.
Bu çalışmada, İndirgenmiş Grafen Oksit (RGO)
arayüzey oksit tabakalı Au/RGO/p-Si metal-oksit-yarıiletken (MOS) kapasitörün
dielektrik özelliklerinin frekans bağımlılığı 200, 300, 500 ve 700 kHz
frekanslarda deneysel kapasitans-voltaj (C-V) ve iletkenlik-voltaj (G/w-V)
ölçümleri alınarak incelendi. Ayrıca MOS kapasitörün dielektrik sabiti (ε'), dielektrik
kayıp (ε"),
dielektrik kayıp açısı (tanδ), ac elektrik iletkenlik (σac), reel ve
imajiner elektrik modülü (Μ' ve Μ") değerleri 10 kHz-1 MHz frekans aralığında belirlendi. Elde edilen sonuçlar dielektrik
parametrelerin frekansa bağımlı olduğunu açık bir şekilde göstermektedir. ε' ve
ε'' artan frekansla azalmaktadır. σac, Μ' ve Μ" değerleri ise artan frekans ile artmaktadır.
Subjects | Electrical Engineering |
---|---|
Journal Section | Electrical and Electronics Engineering |
Authors | |
Publication Date | July 31, 2017 |
Submission Date | April 15, 2017 |
Acceptance Date | June 14, 2017 |
Published in Issue | Year 2017 Volume: 6 Issue: 2 |