Etkin atom numarası (Zeff) ve elektron yoğunluğu (Neff) teknik ve endüstriyel uygulamalarda, radyasyon zırhlama
tasarımında, soğurma dozu ve foton çoğalma faktörü hesaplamalarında çoklu elementli bir malzemenin radyasyona
tepkisini karakterize etmek için kullanılan uygun parametrelerdir. Dolayısıyla, bu parametreleri tartışmasız bir şekilde
belirlemek için doğru metodu seçmek çok önemlidir. Bu çalışmada, farklı tipteki malzemelerin etkin atom numarası
ve elektron yoğunlukları 1 keV - 100 GeV enerji aralığında toplam foton etkileşimi için doğrudan ve interpolasyon
metotları kullanılarak hesaplanmıştır. Ayrıca, metotların uyumluluğu ve uyumsuzlukları tartışılmış ve sonuçlardan,
farklı enerji bölgelerinde malzemeler için hesaplamak için kullanılan metotlar arasında önemli farklılıklar
gözlenmiştir.
Effective atomic number (Zeff) and electron density (Neff) are convenient parameters used to characterise the radiation
response of a multi-element material in the technical and industrial applications, radiation shielding design, absorbed
dose and build-up factor calculations. Thus, it is very significant to choose accurate method to determine these
parameters unambiguously. In the present study, effective atomic numbers and electron densities of different types of
materials have been calculated by using a direct method and an interpolation method for total photon interaction in the
energy region of 1 keV to 100 GeV. In addition, agreements and disagreements of the used methods have been
discussed, and from the results, significant variations have been observed between the methods used to compute for
the materials in the different energy regions.
Shielding material effective atomic number radiation interaction
Konular | Elektrik Mühendisliği |
---|---|
Bölüm | Araştırma Makalesi |
Yazarlar | |
Yayımlanma Tarihi | 1 Haziran 2017 |
Gönderilme Tarihi | 11 Ocak 2016 |
Kabul Tarihi | 1 Kasım 2016 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2017 Cilt: 21 Sayı: 3 |
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.