n-AgInSe2/p-Si
heterojunction diode was fabricated by a successive layer deposition of AgInSe2
thin film on p-type Si. The ideality
factor and saturation current of the diode exhibited temperature dependent
behaviour. The activation energy was calculated by using traditional activation
energy plot. The current mechanism for diode was determined as defect-assisted
tunnelling and carrier recombination. Furthermore, a modified Horvath method
which was firstly presented for n-AgInSe2/p-Si heterojunction here was used for
calculation of activation energy.
AgInSe2 thin film Temperature dependence Modified Horvath method
n-AgInSe2/p-Si heteroeklem diyodu, AgInSe2
ince filminin, p-tipi Si üzerine ardıl tabaka biriktirme yöntemi ile imal
edilmiştir. Diyodun idealite çarpanı ve doyma akımı sıcaklık bağlı davranış
göstermiştir. Aktivasyon enerjisi, geleneksel aktivasyon enerji grafiği
kullanılarak hesaplanmıştır. Akım mekanizmaları kusur-destekli tünelleme ve
taşıyıcı rekombinasyonu olarak belirlenmiştir. Ayrıca aktivasyon enerjisini
hesaplamak için değiştirilmiş Horvath yöntemi, n-AgInSe2/p-Si
heteroeklemi için ilk defa burada sunulmuştur.
AgInSe2 ince film Sıcaklık bağlılığı Değiştirilmiş Horvath yöntemi
Birincil Dil | İngilizce |
---|---|
Konular | Metroloji,Uygulamalı ve Endüstriyel Fizik |
Bölüm | Makaleler |
Yazarlar | |
Yayımlanma Tarihi | 30 Kasım 2018 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2018 Cilt: 13 Sayı: 2 |