Ege Bölgesi’nde üretimi yapılan üç farklı pamuk (Gossypium hirsutum L.) kültür çeşidine
(Nazilli-84, NM-503 ve Carmen) ait tohumlar, çimlendirilmiş ve elde edilen bitkiciklerin
sap ve yaprak parçaları, kallus oluşturmak üzere; 5 mg/l IBA ve NaCl’nin farklı konsantrasyonlarını
(0, 50, 100, 150, 200 ve 250 mM) içeren Murashige ve Skoog (MS) (1962) ortamlarına
aktarılmıştır. Aktarımdan sonra aydınlık koşullarda tutulan kültürler, dört haftada alt
kültürlemeye alınmışlardır. Araştırmada, farklı tuz konsantrasyonlarının elde edilen
kallusların fotosentetik pigment miktarları incelenmiş ve çeşitlerin tuza tolerans durumları ele
alınmıştır.
Elde ettiğimiz sonuçlara göre, uygulanan tuz konsantrasyonu artışına paralel olarak, incelenen
pamuk çeşitlerinde NaCl’ün olumsuz etkilerine en güçlü reaksiyonu Nazilli-84 vermiştir. Dolayısıyla Nazilli-84, diğer çeşitlere göre tuza tolerans seviyesi en yüksek olan çeşit olarak belirlenmiştir. Fotosentetik pigmentlerde tuz konsantrasyonu arttıkça oluşan Klorofil
a, Klorofil b ve Total klorofil miktarlarında azalmalar gözlenmiş ve 150 mM seviyesinden
sonra en düşük seviyelere ulaşılmıştır. Fotosentetik pigmentlerin etkilenmesinde sıralama ise
Nazilli-84, Carmen ve NM-503 olarak gerçekleşmiştir. Pigmentler açısından yaprak
eksplantlarının gösterdiği tepki sap eksplantlarınkinden yüksek olmuştur.
Sonuç olarak, tuza en toleranslı çeşidin Nazilli-84 olduğunu, bunu Carmen çeşidinin izlediğini ve içlerinde en hassas olan çeşidin de NM-503 olduğunu söyleyebiliriz. Çeşitler, 150 mM NaCl seviyesine kadar NaCl’ü tolere etmişlerdir. Bu çalışma ile pamuk genotiplerinin
tuz stresine verdikleri reaksiyonlarım doku kültürü çalışmalarıyla daha kısa sürede ve daha
kontrollü koşullarda belirlenebileceği ortaya konmuştur.
Primary Language | tr;en |
---|---|
Journal Section | Research Articles |
Authors | |
Publication Date | March 23, 2012 |
Published in Issue | Year 2009 Volume: 17 Issue: 2 |