Flor Katkılı ZnO İnce Filmlerin Üretimi ve Fiziksel Özelliklerinin İncelenmesi
Abstract
Bu çalışmasında, kimyasal püskürtme yöntemi ile katkısız ve flor katkılı ZnO filmler üretildi. Kimyasal Püskürtme Yöntemi ile 450 °C taban sıcaklığında cam altlıklar üzerine ZnO ve Flor katkılı ZnO ince filmleri ZnCl2 tuzu kullanılarak elde edilmiş ve elde edilen bu ince filmlerin fiziksel özellikleri incelenmiştir. Filmlerin X- ışını toz kırınım deseninden, ince filmlerin kristal yapısının hekzagonal würtzit yapıda olduğu belirlenmiştir. Optik yöntemlerle ince filmlerin yasak enerji aralıkları bulunmuştur. Filmlerin özdirençleri dört nokta yöntemi ile bulunmuştur. SEM görüntülerinden flor katkısının filmlerin morfolojik yapısını değiştirdiği görülmüştür.
Keywords
References
- K. Nomura et al., Science 300 (2003) 1269.
- T. Nakada et al Sol. Energy 77 (2004) 739.
- B.N. Pawar et al, Journal of Physics and Chemistry of Solids 66 (2005) 1779.
- S.Y. Lee et al Thin Solid Films 437 (2005) 31.
- R.Könenkamp et al Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 6004.
- S.T. Mckinstry, P. Muralt, J. Electroceram. 12 (2004) 7.
- Z.L. Wang, X et al, Adv. Funct. Mater. 14 (2004) 943.
- M.S. Wagh et al , Mater. Chem. Phys. 84 (2004) 228.
- Y. Ushio, et al, Sensor Actuat. B 17 (1994) 221.
- H. Harima, J. Phys.: Condens. Matter 16 (2004) S5653.