Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi
Öz
Bu çalışmada, Al/(%5 Gr-PVA)/p-Si (MPS) kapasitörler hazırlanarak dielektrik özellikleri, oda
sıcaklığında ve geniş bir voltaj aralığında ölçülen kapasitans-voltaj (C-V) ve kondüktans-voltaj (G/-V)
ölçümleri kullanılarak yeterince düşük (1 kHz) ve yüksek (1 MHz) olmak üzere iki farklı frekansta incelendi.
Ölçülen C-V ve G/-V eğrilerinden elde edilen '-V ve ''-V eğrilerinin de tıpkı onlar gibi sırasıyla yığılım
(-6V/-2V), tükenim (-2V/2V), ve terslenim (1.5V/6V) bölgelerine sahip olduğu gözlendi. Kompleks dielektrik
sabitinin gerçek (’) ve sanal ('') kısımlarının hem frekansa hem de voltaja bağlı olduğu ve bu bağlılığın
özellikle tükenim ve yığılım bölgelerinde daha belirginleştiği saptandı. Hem ' hem de '' değerlerinde
frekans ve voltaja bağlı saptanan değişimler, özellikle hazırlanan aygıtın seri direncine (Rs), (%5 GrPVA)/p-Si oluşan arayüzey durumlarına (Nss) ve yüzey/dipol polarizasyonuna atfedildi. Bu Nss değerleri ve
polarizasyon, düşük-orta frekanslarda ölçülen C ve G değerlerine ve dolayısıyla da ' ile '' değerlerine
ilave bir katkı getirmektedir. Özellikle düşük frekanslarda elde edilen yüksek ' ve '' değerleri, bize,
kullanılan (Gr-PVA) polimer arayüzey tabakanın geleneksel yalıtkanlar yerine başarıyla kullanılabileceği
ve MPS kapasitörlerde daha fazla yük/enerji depolanabileceğini göstermektedir.
Anahtar Kelimeler
Kaynakça
- [1] Sze, S. M. and Kwok, K. N. (2007). Physics of Semiconductor Devices (3 rd ed.). New Jersey: John Wiley & Sons, 362-390.
- [2] Rhoderick, E. H. and Williams, R. H. (1988). Metal Semiconductor Contacts (2nd ed.). Oxford: Oxford Press, 257-264.
- [3] Sharma, B. L. (1984). Metal-Semiconductor Schottky Barrier Junctions and Their Applications (1st ed.). New York: Plenum Press, 55-175.
- [4] Mott, N. F. (1938). Note on the contact between a metal and an insulator or semiconductor. Proceedings of the Cambridge Philosophical Society, 34, 568-572.
- [5] Cowley, A. M. and Sze, S. M. (1965). Surface state and barrier height of metal semiconductor systems. Journal of Applied Physics, 36(10), 3212-3221.
- [6] Tung, R. T. (2001). Recent advances in Schottky barrier concepts. Materials Science & Engineering R-Reports, 35 (1-3), 1-138.
- [7] Card, H. C. and Rhoderick, E. H. (1973). The effect of an interfacial layer on minority carrier injection in forward-biased silicon Schottky diodes. Solid-State Electronics, 16 (3), 365-374.
- [8] Nicollian, E. H. and Brews, J. R. (1982). Metal Oxide Semiconductor (MOS) Physics and Technology. New York: Wiley, 186-330.
Ayrıntılar
Birincil Dil
Türkçe
Konular
-
Bölüm
Araştırma Makalesi
Yayımlanma Tarihi
30 Aralık 2020
Gönderilme Tarihi
1 Aralık 2020
Kabul Tarihi
20 Aralık 2020
Yayımlandığı Sayı
Yıl 2020 Cilt: 1 Sayı: 1-2
APA
Altındal Yerişkin, S., & Şafak Asar, Y. (2020). Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi, 1(1-2), 144-153. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959
AMA
1.Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 2020;1(1-2):144-153. doi:10.5281/zenodo.4398959
Chicago
Altındal Yerişkin, Seçkin, ve Yasemin Şafak Asar. 2020. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1 (1-2): 144-53. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959.
EndNote
Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y (01 Aralık 2020) Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1 1-2 144–153.
IEEE
[1]S. Altındal Yerişkin ve Y. Şafak Asar, “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”, GÜFFD, c. 1, sy 1-2, ss. 144–153, Ara. 2020, doi: 10.5281/zenodo.4398959.
ISNAD
Altındal Yerişkin, Seçkin - Şafak Asar, Yasemin. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1/1-2 (01 Aralık 2020): 144-153. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959.
JAMA
1.Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 2020;1:144–153.
MLA
Altındal Yerişkin, Seçkin, ve Yasemin Şafak Asar. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi, c. 1, sy 1-2, Aralık 2020, ss. 144-53, doi:10.5281/zenodo.4398959.
Vancouver
1.Seçkin Altındal Yerişkin, Yasemin Şafak Asar. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 01 Aralık 2020;1(1-2):144-53. doi:10.5281/zenodo.4398959