Araştırma Makalesi

Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi

Cilt: 1 Sayı: 1-2 30 Aralık 2020
PDF İndir

Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi

Öz

Bu çalışmada, Al/(%5 Gr-PVA)/p-Si (MPS) kapasitörler hazırlanarak dielektrik özellikleri, oda sıcaklığında ve geniş bir voltaj aralığında ölçülen kapasitans-voltaj (C-V) ve kondüktans-voltaj (G/-V) ölçümleri kullanılarak yeterince düşük (1 kHz) ve yüksek (1 MHz) olmak üzere iki farklı frekansta incelendi. Ölçülen C-V ve G/-V eğrilerinden elde edilen '-V ve ''-V eğrilerinin de tıpkı onlar gibi sırasıyla yığılım (-6V/-2V), tükenim (-2V/2V), ve terslenim (1.5V/6V) bölgelerine sahip olduğu gözlendi. Kompleks dielektrik sabitinin gerçek (’) ve sanal ('') kısımlarının hem frekansa hem de voltaja bağlı olduğu ve bu bağlılığın özellikle tükenim ve yığılım bölgelerinde daha belirginleştiği saptandı. Hem ' hem de '' değerlerinde frekans ve voltaja bağlı saptanan değişimler, özellikle hazırlanan aygıtın seri direncine (Rs), (%5 GrPVA)/p-Si oluşan arayüzey durumlarına (Nss) ve yüzey/dipol polarizasyonuna atfedildi. Bu Nss değerleri ve polarizasyon, düşük-orta frekanslarda ölçülen C ve G değerlerine ve dolayısıyla da ' ile '' değerlerine ilave bir katkı getirmektedir. Özellikle düşük frekanslarda elde edilen yüksek ' ve '' değerleri, bize, kullanılan (Gr-PVA) polimer arayüzey tabakanın geleneksel yalıtkanlar yerine başarıyla kullanılabileceği ve MPS kapasitörlerde daha fazla yük/enerji depolanabileceğini göstermektedir.

Anahtar Kelimeler

Kaynakça

  1. [1] Sze, S. M. and Kwok, K. N. (2007). Physics of Semiconductor Devices (3 rd ed.). New Jersey: John Wiley & Sons, 362-390.
  2. [2] Rhoderick, E. H. and Williams, R. H. (1988). Metal Semiconductor Contacts (2nd ed.). Oxford: Oxford Press, 257-264.
  3. [3] Sharma, B. L. (1984). Metal-Semiconductor Schottky Barrier Junctions and Their Applications (1st ed.). New York: Plenum Press, 55-175.
  4. [4] Mott, N. F. (1938). Note on the contact between a metal and an insulator or semiconductor. Proceedings of the Cambridge Philosophical Society, 34, 568-572.
  5. [5] Cowley, A. M. and Sze, S. M. (1965). Surface state and barrier height of metal semiconductor systems. Journal of Applied Physics, 36(10), 3212-3221.
  6. [6] Tung, R. T. (2001). Recent advances in Schottky barrier concepts. Materials Science & Engineering R-Reports, 35 (1-3), 1-138.
  7. [7] Card, H. C. and Rhoderick, E. H. (1973). The effect of an interfacial layer on minority carrier injection in forward-biased silicon Schottky diodes. Solid-State Electronics, 16 (3), 365-374.
  8. [8] Nicollian, E. H. and Brews, J. R. (1982). Metal Oxide Semiconductor (MOS) Physics and Technology. New York: Wiley, 186-330.

Ayrıntılar

Birincil Dil

Türkçe

Konular

-

Bölüm

Araştırma Makalesi

Yazarlar

Yasemin Şafak Asar * Bu kişi benim
Türkiye

Yayımlanma Tarihi

30 Aralık 2020

Gönderilme Tarihi

1 Aralık 2020

Kabul Tarihi

20 Aralık 2020

Yayımlandığı Sayı

Yıl 2020 Cilt: 1 Sayı: 1-2

Kaynak Göster

APA
Altındal Yerişkin, S., & Şafak Asar, Y. (2020). Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi, 1(1-2), 144-153. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959
AMA
1.Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 2020;1(1-2):144-153. doi:10.5281/zenodo.4398959
Chicago
Altındal Yerişkin, Seçkin, ve Yasemin Şafak Asar. 2020. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1 (1-2): 144-53. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959.
EndNote
Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y (01 Aralık 2020) Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1 1-2 144–153.
IEEE
[1]S. Altındal Yerişkin ve Y. Şafak Asar, “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”, GÜFFD, c. 1, sy 1-2, ss. 144–153, Ara. 2020, doi: 10.5281/zenodo.4398959.
ISNAD
Altındal Yerişkin, Seçkin - Şafak Asar, Yasemin. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi 1/1-2 (01 Aralık 2020): 144-153. https://doi.org/10.5281/zenodo.4398959.
JAMA
1.Altındal Yerişkin S, Şafak Asar Y. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 2020;1:144–153.
MLA
Altındal Yerişkin, Seçkin, ve Yasemin Şafak Asar. “Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi”. Gazi Üniversitesi Fen Fakültesi Dergisi, c. 1, sy 1-2, Aralık 2020, ss. 144-53, doi:10.5281/zenodo.4398959.
Vancouver
1.Seçkin Altındal Yerişkin, Yasemin Şafak Asar. Grafen Katkılı PVA Ara Yüzey Tabakalı Metal/Yarı İletken Yapıların Hazırlanması ve Dielektrik Özelliklerinin İncelenmesi. GÜFFD. 01 Aralık 2020;1(1-2):144-53. doi:10.5281/zenodo.4398959