Yb/p-Si Schottky Diyotlarının Elektriksel Karakteristiklerinin İncelenmesi
Abstract
Yb/p-Si Schottky diyotları termal buharlaştırma yöntemiyle imal edilmiştir. Bu diyotların akım-gerilim (I-V) ve kapasitans-gerilim (C-V) ölçümleri karanlıkta ve oda sıcaklığında alınmıştır. I-V verileri kullanılarak idealite faktörü (n), sıfır-beslem engel yüksekliği (bo) ve seri direnç (Rs) parametreleri hesaplanırken C-2-V karakteristiğinden Fermi enerji seviyesi (EF), alıcı atomların yoğunluğu (NA) ve engel yüksekliği [Фb(C-V)] gibi bazı elektriksel parametreler hesaplanmıştır. Doğru beslem I-V karakteristiklerinden n değeri 1.59 olarak hesaplanırken bo değeri 0.75 eV olarak hesaplanmıştır. C-2-V karakteristiğinden EF, NA ve Фb(C-V) değerleri, sırasıyla, 0.15 eV, 5.27×1015 cm-3 ve 0.67 eV olarak bulunmuştur. Ayrıca, n, Фb ve Rs değerleri Cheung ve Norde fonksiyonlarından da elde edilmiştir. Elde edilen bulgulara göre, Yb/p-Si Schottky diyotlarının düşük sızıntı akımına, iyi bir doğrultma oranına ve yüksek engel yüksekliğine sahip olması, Yb’un kaliteli Schottky diyot elde etmek için cazip bir element olduğunu göstermiştir.
Keywords
References
- Akkılıç A, Türüt A, Çankaya G, Kılıçoğlu T, 2003. Correlation between Barrier Height and Ideality Factors of Cd/n-Si and Cd/p-Si Schottky Barrier Diodes. Solid State Communications, 125, 551-556.
- Altındal Ş, Dökme İ, Bülbül M M, Yalçın N, Serin T, 2006. The Role of the Interface Insulator Layer and Interface States on the Current-Transport Mechanisms of Schottky Diodes in Wide Temperature Range. Microelectronic Engineering, 83, 499-505.
- Ayyıldız E, Türüt A, Efeoğlu H, Tüzemen S, Sağlam M, Yoğurtçu Y K, 1996. Effect of Series Resistance on the Forward Current-Voltage Characteristics of Schottky Diodes in the Presence of Interfacial Layer. Solid-State Electronics, 39(1), 83-87.
- Bilkan Ç, Gümüş A, Altındal Ş, 2015. The Source of Negative Capacitance and Anomalous Peak in the Forward Bias Capacitance-Voltage Cr/p-Si Schottky Barrier Diodes (SBDs). Materials Science in Semiconductor Processing, 39, 484-491.
- Bohlin K E, 1986. Generalized Norde Plot Including Determination of the Ideality Factor. Journal of Applied Physics, 60, 1223.
- Card H C, Rhoderick E H, 1971. Studies of Tunnel MOS Diodes I. Interface Effects in Silicon Schottky Diodes. Journal of Physics D: Applied Physics, 4, 1589-1601.
- Chen J, Ku T C, Li M F, Chin A, 2012. Investigation of Schottky Junction and MOS Technology for III-V Compound Semiconductor MOSFET Application. 12th International Workshop on Junction Technology, Shanghai, May 14-15, 2012.
- Cheung S K, Cheung N W, 1986. Extraction of Schottky Diode Parameters from Forward Current-Voltage Characteristics. Applied Physics Letters, 49 (2), 85.
Details
Primary Language
Turkish
Subjects
Metrology, Applied and Industrial Physics
Journal Section
Research Article
Authors
Havva Elif Lapa
*
0000-0002-5706-4641
Türkiye
Ali Kökce
This is me
0000-0001-9814-830X
Türkiye
Publication Date
September 1, 2019
Submission Date
March 10, 2019
Acceptance Date
May 15, 2019
Published in Issue
Year 2019 Volume: 9 Number: 3