In this study, the optical properties of AlInN/AlN high electron mobility transistor (HEMT) structure, grown on c-oriented sapphire with Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) technique, being investigated. Optical characterization is made Kubelka- Munk method. Transmittance, absorbance, and reflectance are investigated in detail. Also, the Kubelka-Munk theory is employed to determine the forbidden energy band gap of InN by using special functions. The energy band gap obtained by this method was compared.
Presidency Strategy and Budget Directorate
2016K121220
Bu çalışmada, Metal Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD) tekniği ile c-yönelimli safir üzerinde büyütülen AlInN/AlN yüksek elektron hareketli transistör (HEMT) yapısının optik özellikleri incelenmiştir. Optik karakterizasyon Kubelka-Munk yöntemiyle yapılmıştır. Geçirgenlik, absorbans, yansıma detaylı olarak incelenmiştir. Ayrıca özel fonksiyonlar kullanarak InN'nin yasak enerji bant aralığını belirlemek için Kubelka-Munk teorisinden yararlanılmıştır. Bu yöntemle elde edilen enerji bant aralığının karşılaştırılması yapılmıştır.
MOCVD HEMT AlInN/InN Geçirgenlik Kubelka-Munk Metodu Mobilite
2016K121220
Primary Language | English |
---|---|
Subjects | Engineering |
Journal Section | Articles |
Authors | |
Project Number | 2016K121220 |
Publication Date | December 15, 2022 |
Published in Issue | Year 2022 Volume: 12 Issue: 2 |
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.