Zirkonya seramiklerin yüksek estetik ve mekanik özellikleri ve biyouyumlu olmaları sebebiyle diş hekimliğinde kullanımları giderek artmaktadır. Restorasyonların klinik başarısındaki önemli faktörlerden birisi seramik, yapıştırma ajanı ve diş yapıları arasındaki bağlanma dayanımıdır. Adezyon, güçlü bir bağlanma dayanımı için gerekli faktörlerden biridir. Adezyon iki dental materyalin fizikokimyasal olarak yapışmasını ifade eder ve bu kavram diş hekimliğinde büyük önem taşır. Zirkonya restorasyonların simantasyonu için genellikle adeziv sistemler tercih edilmektedir. Adeziv simantasyon, kimyasal bağlantı ve mikromekanik kilitlenme ile restorasyonun dişe yapışmasını sağlar. Adeziv simantasyon ile tutuculuk artar, marjinal bütünlük sağlanır, mikro sızıntı azalır, restorasyonun kırılma direnci artar ve sekonder çürük riski önlenerek daha başarılı, uzun ömürlü restorasyonlar elde edilir. Kimyasal olarak stabil, silika içeriği olmayan zirkonya seramiklerin aside karşı dirençli olması sebebiyle, silika bazlı seramiklere uygulanan yüzey işlemleri zirkonya seramikler için uygun olmamaktadır. Bu nedenle zirkonya seramiklerle rezin simanlar arasında güvenilir bir bağlantı elde edilmesinde problemler yaşanmaktadır. Zirkonya seramikler ve rezin simanlar arasındaki bağlantıyı geliştirmek için çeşitli yüzey işlemi yöntemleri geliştirilmeye devam etmektedir. Bağlantıyı artırmak için seramik yüzeyine mekanik, kimyasal veya mekanik ve kimyasal yüzey işlemlerinin kombinasyonu şeklinde olan işlemler uygulanabilir. Uygulanan yüzey işlemleri sayesinde materyal yüzeyindeki temas alanı, materyalin yüzey enerjisi ve ıslanabilirliği artmış olur. Bu makalede rezin simanlar ve zirkonya seramikler arasındaki bağlanma dayanımını artırmak için uygulanan yüzey işlemlerinden bahsedilmiştir.
Primary Language | Turkish |
---|---|
Subjects | Dentistry |
Journal Section | Review |
Authors | |
Publication Date | April 27, 2022 |
Submission Date | October 23, 2020 |
Published in Issue | Year 2022 Volume: 9 Issue: 1 |
Selcuk Dental Journal is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License (CC BY NC).