BibTex RIS Kaynak Göster

Improvements of Some Characteristics for Optical Thin Films with Ion-Assisted Deposition

Yıl 2007, Cilt: 6 Sayı: 2, 33 - 47, 01.06.2007

Öz

Improvements of Some Characteristics for Optical Thin Films with Ion-Assisted Deposition

Yıl 2007, Cilt: 6 Sayı: 2, 33 - 47, 01.06.2007

Öz

Bu çalışmada, iyon destekli kaplama tekniği ile soğuk-katot plazma kaynağı tarafından oluşturulan optik ince filmin özelliklerinin analizi yapılmıştır. Bu işlem optik ince filmin, optik ve fiziksel karakteristiklerini artırmak için gerçekleştirilmiştir. Sistemin sürücü voltajı, basıncı ve pompalama hızı ele alınmış, silikon tabakası ve mikroskop camı üzerinde kaplanan, TiO2 ve Ta2O5’in bazı karakteristikleri incelenmiştir. TiO2 ve Ta2O5için kırılma indisleri, kalınlık ve gerilimler hesaplanmış ve filmlerin nem kararlılığı incelenmiştir. Farklı pompalama hızı ve gaz akış hızlarında farklı filmlerin kırılma indislerinin değişimleri üzerinde çalışılmıştır

Toplam 0 adet kaynakça vardır.

Ayrıntılar

Birincil Dil Türkçe
Bölüm Makaleler
Yazarlar

O. Faruk Farsakoğlu Bu kişi benim

Yayımlanma Tarihi 1 Haziran 2007
Gönderilme Tarihi 27 Temmuz 2014
Yayımlandığı Sayı Yıl 2007 Cilt: 6 Sayı: 2

Kaynak Göster

IEEE O. F. Farsakoğlu, “Improvements of Some Characteristics for Optical Thin Films with Ion-Assisted Deposition”, Savunma Bilimleri Dergisi, c. 6, sy. 2, ss. 33–47, 2007, doi: 10.17134/sbd.56370.