This study discusses the characterization of the ion energy produced by a broad-beam cold cathode plasma source. Ion energy of the source has been investigated using O2 as a working gas. Measurements were made by an ion energy analyzer to obtain ion energy distribution functions (IEDFs). Mean ion energies of oxygen as a function of pressure, drive voltage, and drive current were calculated. Effects of these parameters on Ion Current Density (ICD) are discussed using a circuitry. Variations of the drive voltage with the drive current for different pumping speeds were analyzed.
Ion-assisted Thin Film Deposition Optical Thin Film Plasma Ion Source
Bu çalışmada, soğuk-katot plazma kaynağı tarafından üretilen iyon enerjisinin etkin parametreleri ele alınmıştır. Kaynağın iyon enerjisi O2incelenmektedir. Ölçümler iyon enerjisi dağılım fonksiyonlarını elde etmek için, bir iyon enerjisi analiz cihazı ile gerçekleştirilmiştir. Oksijenin ortalama iyon enerjisi; basıncın, sürücü geriliminin ve sürücü akımının fonksiyonu olarak hesaplanmıştır. İyon akım yoğunluğu üzerindeki bu parametrelerin etkileri bir devre kullanılarak yapılmıştır. Farklı pompalama hızları için akımla gerilim arasındaki değişmeler analiz edilmiştir
İyon Destekli İnce Film Kaplama Optik İnce Film Plazma İyon Kaynağı
Birincil Dil | Türkçe |
---|---|
Konular | Mühendislik |
Bölüm | Makaleler |
Yazarlar | |
Yayımlanma Tarihi | 1 Mart 2007 |
Gönderilme Tarihi | 27 Temmuz 2014 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2007 Cilt: 6 Sayı: 1 |