PECVD Tekniği ile Büyütülmüş İnce Filmlerde Oluşan Ge ve SiGe Nanokristallerin Geçirgen Elektron Mikroskobu (TEM) ,Raman ve Fotoışıma Spektroskopisi Teknikleri ile İncelenmesi
Abstract
Yaptığımız bu deneysel çalışmada; SiOx yapı içerisinde oluşturulmuş Ge ve SiGe nanokristalleinin optiksel ve elektriksel özelliklerini TEM, Raman ve Fotoışıma spekroskopileri teknikleri yardımıyla araştırdık. SiOx yapı içerisindeki Ge nanokristaller farklı tavlama sürelerinde Plazma ile hızlandırılmış kimyasal buharlatırma tekniği (PECVD yardımıyla oluşturuldu. Çalışmamızın amacı SiOx yapı içerisindeki Ge ve SiGe nanokristallerin boyut ve boyut dağılımlarını tavlama sürecine bağlı olarak araştırmaktır. TEM, Raman ve Fotoışıma ölçümleri yardımıyla nanokristallerin karakteri
Keywords
References
- [1] Wang Y Q , Kong G L at al. PPl. Phys.Lett. 202-281 (2002 ) [2] Shlimak I, Vagner and Safarov V I 2000 Proc. 25th Int. Conf. On the Phiysics of Semiconductors (Osake:Springer) [3] Optical properties of semiconductor nanocrystal, Gaponenko S. V., Cambridge University press (1998) [4] Nishii J. Kintaka K. Hosono H. Kawazone H. Kato M and Muta K Phys. Rev. B 60 7166 (1999) [5] Oha R, Sugiyama N and Uchida K IEDM Tech. Dig. 557 (2002) [6] Kanoun M, Souifi A, Baron T, Mazen F. Appl Phys Lett;84:5079 (2004). [7] Dana A., Ağan S., Tokay S., Aydınlı A., Finstand T. G. Phys. Sat. Sol. C 4,No.2,288-291 (2007). [8] Ağan S., Dana A. , Aydınlı A. , J. Phys. Condes. Matter. 18, 5037- 5045 (2006). [9] Brongersma M. L., Polman A., . Min K.S., Boer E., Tambo T. and AtwaterH.A. , Appl. Phys. Lett. 72 2577 (1998). [10] Neufeld E., Wang S., Apetz R., Buchal Ch., Carius R., White C. W. and Thomas D. K. , Thın Solid Films,294 238 (1997). [11] Wilkinson A. R., and Elliman R. G., Phys. Rev. B 68 155302 (2003). [12] Ağan. S,.Çelik-Aktaş A,.Zuo J.M, Dana A., Aydınlı A. Appl. Phys. A 83, 107-110 (2006). [13] Fuji M., Hayashi S. and Yamamoto K., Appl. Phys. Lett. 57 2692 (1990). [14] Fuji M., Hayashi S. and Yamamoto K., Jpn. J. Appl. Phys. 30 687 (1991) [15] K. Eberl, O.G. Schmit, R. Duschl, O. Kienzle, E. Ernst and Y. Rau, Thin Solid Films, 369, 33 (2000). [16] Talalaev G. , Cirlin G. E., Tonkikh A. A., Zakharov N. D. , Werner, Gösele P. U., Tomm J. W. and Elsaesser T. , Nanoscale Res. Lett, 1 (2) 137 (2006).