silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi

Cilt: 33 Sayı: 1 8 Mart 2018
  • Murat Barisik
PDF İndir

silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi

Öz

Yeni üretim tekniklerine paralel olarak nano-boyutlu teknolojiler çok geniş bir uygulama alanında kullanılmaya başlanmakta ve yeni uygulamalar geliştirmek için keşfedilmesi ve anlaşılması gereken konular süratle artmaktadır. Bu doğrultuda, yeni uygulamalarda sıkça yer bulan silikon ve silikon-dioksitin mikro/nano boyutlardaki malzeme özelliklerinin anlaşılmasına büyük ihtiyaç oluşmaktadır. Özellikle bu yüzeylerin ıslanma hareketlerinin anlaşılabilmesi ve hatta kullanılacak uygulamaya göre ayarlanabilmesi sayısız uygulama için önem arz etmektedir. Bu nedenlerle, nano-teknolojide sıkça kullanılan silikon-dioksit malzemesini ve su moleküllerini, nano-ölçeklerde moleküler olarak modellenmesi bu çalışmada gerçekleştirildi. Modelleme molekuler dinamik hesaplamaları ile yapildi. Silikon-dioksit yüzey üzerinde nano su damlacıkları olusturup, denge halinde oluşan ıslatma açısı ölçümleri yapildi. Literatürde işlem yükünü azaltmak için sıklıkla uygulanan, katı yüzey termal titreşimlerinin ıslatmaya olan etkisinin ihmal edilmesi ve modellenmemesinin ıslatma açısına olan etkisi incelendi. Katı moleküllerin termal titreşimlerinin ıslatma modellenen ıslatma fiziğine baskın bir etkisi olduğu görüldü. Geçtiğimiz yillarda doğa taklidi olarak bilinen çalışma çevreleri tarafından hayata geçirilmeye çalışılan Lotus yaprağı etkisi temelli yüzey ıslatma kontrolu moleküler seviyede uygulandı. Yüzey üzerinde oluşturulan nano boyutlardaki yüzey yapılarının ıslanma açısını değiştirebildiği gösterildi. Temiz (0 0 1) silika yüzeyinde nano ölçek çizgi gerilimi etkisi altında ölçülen ıslanma açısının deneysel silika ıslanma açısı aralığında olduğu bulundu.

Anahtar Kelimeler

Kaynakça

  1. Kim, B. S., Shin, S., Shin, S. J., Kim, K. M. ,Cho, H. H., Micro-nano hybrid structures with manipulated wettability using a two-step silicon etching on a large area, Nanoscale research letters, 6(1), 1-10, 2011.
  2. Haller, I., Covalently attached organic monolayers on semiconductor surfaces, Journal of the American Chemical Society 100(26), 8050-8055, 1978.
  3. Zorba, V., Persano, L., Pisignano, D., Athanassiou, A., Stratakis, E., Cingolani, R., Tzanetakis, P., Fotakis, C., Making silicon hydrophobic: wettability control by two-lengthscale simultaneous patterning with femtosecond laser irradiation, Nanotechnology, 17(13), 3234, 2006.
  4. Qiu, Y., Chen, Y., Liu, L., Zhao, G., Water and ion distributions in a silicon nanochannel: a molecular dynamics study Proceedings of the Institution of Mechanical Engineers, Part N: Journal of Nanoengineering and Nanosystems, 226(1), 31-34, 2012.
  5. Chai, J., Liu, S., Yang, X., Molecular dynamics simulation of wetting on modified amorphous silica surface, Applied surface science, 255(22), 9078-9084, 2009.
  6. Yao, H., Dai, Y., Feng, J., Wei W., Huang W., Graft and characterization of 9-vinylcarbazole conjugated molecule on hydrogen-terminated silicon surface, Applied Surface Science, 253(3), 1534 – 1539, 2006.
  7. Bhushan, B., Jung, Y. C., Koch, K., Micro-nano-and hierarchical structures for superhydrophobicity, self-cleaning and low adhesion Philosophical Transactions of the Royal Society of London A: Mathematical, Physical and Engineering Sciences, 367(1894), 1631-1672, 2009.
  8. Yen, T.H., Wetting characteristics of nanoscale water droplet on silicon substrates with effects of surface morphology, Molecular Simulation, 37(9), 766-778, 2011.

Ayrıntılar

Birincil Dil

Türkçe

Konular

-

Bölüm

-

Yazarlar

Murat Barisik Bu kişi benim

Yayımlanma Tarihi

8 Mart 2018

Gönderilme Tarihi

20 Nisan 2017

Kabul Tarihi

-

Yayımlandığı Sayı

Yıl 2018 Cilt: 33 Sayı: 1

Kaynak Göster

APA
Barisik, M. (2018). silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi, 33(1). https://doi.org/10.17341/gazimmfd.406805
AMA
1.Barisik M. silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. GUMMFD. 2018;33(1). doi:10.17341/gazimmfd.406805
Chicago
Barisik, Murat. 2018. “silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi”. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi 33 (1). https://doi.org/10.17341/gazimmfd.406805.
EndNote
Barisik M (01 Mart 2018) silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi 33 1
IEEE
[1]M. Barisik, “silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi”, GUMMFD, c. 33, sy 1, Mar. 2018, doi: 10.17341/gazimmfd.406805.
ISNAD
Barisik, Murat. “silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi”. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi 33/1 (01 Mart 2018). https://doi.org/10.17341/gazimmfd.406805.
JAMA
1.Barisik M. silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. GUMMFD. 2018;33. doi:10.17341/gazimmfd.406805.
MLA
Barisik, Murat. “silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi”. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi, c. 33, sy 1, Mart 2018, doi:10.17341/gazimmfd.406805.
Vancouver
1.Murat Barisik. silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. GUMMFD. 01 Mart 2018;33(1). doi:10.17341/gazimmfd.406805