Arayüzey Doğal Oksit Tabakalı Al/p-Si/Al Yapıların Dielektrik Karakteristiklerine Ölçüm Frekansının Etkileri
Öz
Deneysel olarak karakteristiklerini belirlemeye çalıştığımız arayüzey doğal oksit tabakalı Al/p-Si/Al metal/oksit tabaka/yarıiletken veya diğer bir adıyla metal/yalıtkan tabaka/yarıiletken (MIS) yapılar elde edilmiştir. Bu yapı için taban malzeme olarak 1-10 Ω-cm özdirençli p-Si yarıiletkeni kullanılmıştır. Arka yüzeyi omik kontaklı olan bu p-Si dilim, laboratuvar ortamında ön parlak yüzeyi üzerinde doğal oksit SiO2 tabakasının oluşması sağlanmıştır. Diyot parametrelerinin elde edilmesi için, yaygın olarak kullanılan, farklı frekanslarda kapasite-gerilim (C-V) kondüktans-gerilim (G-V) ölçümlerinden Al/p-Si MIS yapının deneysel frekans admittans karakteristikleri elde edilmiştir. Bu karakteristiklerinden, gerçek 𝜀′ ve sanal dielektrik 𝜀′′ sabiti, loss-tanjant (𝜀′′/𝜀′), gerçek 𝑀′ ve sanal elektriksel modulüs 𝑀′′ ve ac iletkenliği 𝜎𝑎𝑐 gibi parametreleri hesaplanmış ve gerekli grafikler çizimleri ve yorumları yapılmıştır.
Anahtar Kelimeler
Kaynakça
- Afandiyeva I. M, Dokme I, Altındal S, Bulbul M. M, Tataroglu A, (2008). Frequency and voltage effects on the dielectric properties and electrical conductivity of Al–TiW–Pd2Si/n-Si structures, Microelect. Engineer. 85: 247–252.
- Akın Ü, Yüksel Ö, 2018. Frequency and voltage dependence of electrical modulus and dielectric studies of spin coated perylene-diimide (PDI) organic semiconductor films. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 29(17): 15183-15190.
- Altındal Ş, Karadeniz S, Tuğluoğlu N, Tataroğlu A, 2003. The role of interface states and series resistance on the I–V and C–V characteristics in Al/SnO2/p-Si Schottky diodes. Solid-State Electronics, 47(10): 1847-1854.
- Altındal Ş, Asar Y. Ş, Kaya A, Sönmez Z, 2012. Investigation of interface states in Al/SiO2/p-Si (MIS) structures with 50 and 826 Å SiO2 interfacial layer usingadmittance spectroscopy method. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials.14(1): 998-1004.
- Aydin M, Akkiliç K, Kiliçoğlu T, 2004. The importance of the neutral region resistance for the calculation of the interface state in Pb/p-Si Schottky contacts. Physica B: Condensed Matter, 352(1-4): 312-317.
- Badali Y, Altındal Ş, Uslu İ, 2018. Dielectric properties, electrical modulus and current transport mechanisms of Au/ZnO/n-Si structures. Progress in Natural Science: Materials International, 28(3): 325-331.
- Caglar Y, Caglar M, Ilican S, Yakuphanoglu F, 2009. Determination of the electronic parameters of nanostructure SnO2/p-Si diode. Microelectronic Engineering, 86(10): 2072-2077.
- Card H, Rhoderick E, 1971. Studies of tunnel MOS diodes I. Interface effects in silicon Schottky diodes. Journal of Physics D: Applied Physics, 4(10): 319.
Ayrıntılar
Birincil Dil
Türkçe
Konular
Elektrik Mühendisliği
Bölüm
Araştırma Makalesi
Yayımlanma Tarihi
1 Mart 2020
Gönderilme Tarihi
28 Ağustos 2019
Kabul Tarihi
24 Eylül 2019
Yayımlandığı Sayı
Yıl 2020 Cilt: 10 Sayı: 1
Cited By
Variation of the Surface States and Series Resistance Depending on Voltage, and Their Effects on the Electrical Features of a Schottky Structure with CdZnO Interface
Journal of Electronic Materials
https://doi.org/10.1007/s11664-022-10192-xSynthesis and electrical characterization of poly[(linoleic acid)‐ g ‐(styrene)‐ g ‐( ε ‐caprolactone)] graft copolymers as gate insulator for OFET devices
Polymer International
https://doi.org/10.1002/pi.6531Ni/n-GaAs ve NiO/n-GaAs Diyotların Elektriksel Parametreleri Arasındaki İlişki
Bitlis Eren Üniversitesi Fen Bilimleri Dergisi
https://doi.org/10.17798/bitlisfen.879884