SnO2 thin
films having tetragonal structure were grown on (100) oriented n-type Si and
corning glass substrates at room temperature with RF magnetron sputtering
technique. The atomic distribution and interfacial evaluation of the deposited
structures were evaluated with the depth profile spectra obtained by the Secondary
Ion Mass Spectrometer. It was seen that the atomic distribution of Sn and O
showed a uniform distribution throughout the film depth. However, it was
precisely determined by SIMS technique that an ultra-thin SiO2 layer
was formed between the SnO2 film, which was deposited on Si, and Si
substrate. The formed SiO2 interlayer thickness was determined to be
dependent on the sputtering kinetics i.e. RF deposition power.
Tetragonal yapıdaki SnO2 ince filmleri
(100) yönelimli n-tipi Si ve korning cam alttaşlar üzerine oda sıcaklığında RF
magnetron püskürtme tekniği ile büyütüldü. Büyütülen yapıların atomik dağılımı
ve arayüzey durumları, İkincil İyon Kütle Spektrometresi analizlerinden elde
edilen derinlik profili spektrumları ile değerlendirildi. Film derinliği
boyunca Sn ve O atomik dağılımının homojen dağılım sergilediği görüldü. Bununla
birlikte, Si alttaş üzerine büyütülen SnO2 filmi ile Si alttaş
arasında çok ince bir SiO2 tabakasının oluştuğu, hassas bir şekilde
SIMS tekniği ile belirlendi. Oluşan SiO2 ara-tabaka kalınlığının,
püskürtme kinetiğine -RF büyütme gücüne- bağlı olduğu belirlendi.
Birincil Dil | Türkçe |
---|---|
Konular | Mühendislik |
Bölüm | Makaleler |
Yazarlar | |
Yayımlanma Tarihi | 25 Ağustos 2019 |
Yayımlandığı Sayı | Yıl 2019 |
e-ISSN :1308-6529
Linking ISSN (ISSN-L): 1300-7688
Dergide yayımlanan tüm makalelere ücretiz olarak erişilebilinir ve Creative Commons CC BY-NC Atıf-GayriTicari lisansı ile açık erişime sunulur. Tüm yazarlar ve diğer dergi kullanıcıları bu durumu kabul etmiş sayılırlar. CC BY-NC lisansı hakkında detaylı bilgiye erişmek için tıklayınız.