Corrosion studies of aluminum 5754 alloy (AA5754) immersed in aqueous solutions which could be used as electrolytes in various application areas were carried out. The effect of acid type on the aluminum oxide formation was investigated for boric acid (H3BO3), tartaric acid (TA), oxalic acid (H2C2O4), hydrochloric acid (HCl), hydrofluoric acid (HF), and tetrafluoroboric acid (HBF4) by comparing with each other. AA5754 surface was characterized by XRD, XPS, AFM, and profilometer methods. While Al2O3 formation was determined in XRD results of all acids, it was confirmed the Al2O3 formation in the XPS spectra and indicated that the acids were adsorbed on the surface due to the presence of B, O, C, Cl, and F peaks. According to the AFM and profilometer images, it was determined that the oxide layers obtained in H3BO3, TA, and H2C2O4 media exhibited a more uniform topography than those in HCl, HF, and HBF4. When all acids were compared, it was determined that the homogeneous and thickest (15.4 nm) oxide film with the lowest roughness values (24.28 nm) was formed in the H3BO3 medium, while the results obtained in HBF4 were the opposite (99.44 nm and 0.64 nm, respectively). The corrosion behavior of the AA5754 sample was investigated by OCP, Tafel, and EIS measurements in acid solutions. Accordingly, it was determined that OCP values shifted to the positive potentials, icorr values decreased, and Rct values increased in the order of HBF4, HF, HCl, H2C2O4, TA, and H3BO3. It was found that the AA5754 specimen exhibited different corrosion behavior in HF and HBF4 media compared to the others. The reason should be the formation of the AlF6-3 complex due to HF produced as a result of the partial decomposition of HBF4 in the aqueous medium. Thus, the dissolution of aluminum carried out much more. Conversely, the oxide layer formed in H3BO3 provided the most effective surface against corrosion. It was because the nucleation and subsequent passivation occurred very rapidly thanks to its weak acidic character (pKa = 9.27) relative to the others.
Industrialacid Electrolyte Aluminum Alloy Aluminum Oxide Surface Characterization Corrosion
Çeşitli uygulama alanlarında elektrolit olarak kullanılabilecek borik asit (H3BO3), tartarik asit (TA), okzalik asit (H2C2O4), hidroklorik asit (HCl), hidroflorik asit (HF) ve tetrafloroborikasitin (HBF4) sulu çözeltileri içinde alüminyum 5754 alaşımının (AA5754) korozyon çalışmaları gerçekleştirilerek ortamdaki asit niteliğinin aliminyum oksit oluşumu üzerine etkisi birbiriyle karşılaştırılarak incelenmiştir. Asitlerde bekletilen AA5754 yüzeyi XRD, XPS, AFM ve profilometre yöntemleri ile karakterize edilmiştir. XRD sonuçları Al2O3 oluşumunu gösterirken XPS sonuçları bu oluşumun doğrulanmasının yanında spektrumda B, O, C, Cl ve F piklerinin gözlenmesi nedeniyle asitlerin yüzeye adsorblandığına işaret etmiştir. AFM ve profilometre görüntülerinden H3BO3, TA ve H2C2O4 ortamlarında elde edilen oksit tabakalarının HCl, HF ve HBF4’dekilere göre daha düzgün topografyaya sergilediği belirlenmiştir. Tüm asitler karşılaştırıldığında H3BO3 ortamında en düşük pürüzlülük değerlerine (24.28 nm) sahip, homojen ve en kalın (15.4 nm) oksit filmin oluştuğu belirlenirken HBF4 ortamında tam tersidir (sırasıyla 99.44 nm ve 0.64 nm). AA5754 numunesinin korozyon davranışı asit çözeltileri içinde OCP, Tafel ve EIS ölçümleri ile incelenmiştir. Buna göre HBF4, HF, HCl, H2C2O4, TA ve H3BO3 sıralamasıyla OCP değerleri pozitif potansiyellere kaymakta, ikor değerleri azalmakta ve Rct değerleri artmaktadır. AA5754 numunesi HF ve HBF4 ortamlarında diğerlerine göre çok farklı bir korozyon davranışı sergilediği gözlenmiştir. Bunun nedeni HBF4’ün sulu ortamda kısmi ayrışması sonucu üretilen HF sayesinde yüzeyde AlF6-3 kompleksinin oluşumu ile çözünmenin daha fazla gerçekleşmesi olmalıdır. Tersine, H3BO3'te ortaya çıkan oksit tabakası, korozyona karşı en etkili yüzeyi sağlamıştır, çünkü diğerlerine göre zayıf asidik karakteri (pKa = 9.27) nedeniyle çekirdeklenme ve ardından pasivasyon çok hızlı gerçekleşmektedir.
Primary Language | Turkish |
---|---|
Journal Section | Articles |
Authors | |
Publication Date | December 31, 2021 |
Submission Date | August 9, 2021 |
Acceptance Date | October 22, 2021 |
Published in Issue | Year 2021 |