Metal/Ferro-elektrik/Yarıiletken (Au/Bi4Ti3O12/n-Si) (MFS) Yapıların Hazırlanması ve Kompleks Dielektrik ile Elektrik Modülüsün 1 MHz için Sıcaklığa Bağlı İncelenmesi
Öz
Anahtar Kelimeler
Kaynakça
- [1] Altındal ¸ S, Parlaktürk F, Tataroğlu A, Parlak M, Sarmasov S N and Agasiev A A 2008 Vacuum 82 1246 [2] Gökçen M and Yıldırım M 2012 Chin. Phys. B21 128502 [3] Parlaktürk F, Altındal S¸ , Tataro˘glu A, Parlak M and Agasiev A A 2008 [4] Yang H, Ren Q, Zhang G, Chow Y T, Chan H P and Chu P L 2005 Opt. Laser Technol. 37 259 [5] Lin X, Guan Q F, Liu Y and Li H B 2010 Chin. Phys. B 19 107701 [6] Wu Y Y, Wang X H and Li L T 2010 Chin. Phys. B 19 037701 [7] Jo W, Cho H J, Noh T W, Cho Y S, Kwun S I, Byun Y T and Kim S H 1994 Ferroelectrics 152 139 [8] Scott J F 1998 Ferroelectrics Rev. 1 1 [9] Joshi P C, Krupanidhi S B and Mansingh A 1992 J. Appl. Phys. 72 5517 [10] Fouscova A and Cross L E 1968 J. Appl. Phys. 39 2268 [11] Simoes A Z, Gonzalez A H M, Riccardi C S, Souza E C, Moura F, Zaghete M A, Longo E and Varela J A 2004 J. Electroceram. 13 65 [12] Cui C E, Huang P and Xu T X 2006 Acta Phys. Sin. 55 1464 (in Chinese) [13] Lue Y G, Liang X L, Tan Y H, Zheng X J, Gong Y Q and He L 2011 Acta Phys. Sin. 60 027701 (in Chinese) [14] Shao T Q, Ren T L,Wei C G,Wang X N, Li C X, Liu J S, Liu L T, Zhu J and Li Z J 2003 Integr. Ferroelectr. 57 1241 [15] Xu Z, Goux L, Kaczer B, Vander Meeren H, Wouters D J and [16] Ishiwara H 2004 Top. Appl. Phys. 93 233 [17] BozgeyikMS, Cross J S, Ishiwara H and Shinozaki K 2010 Microelectron. Eng. 87 2173 [18] M Okuyama and Y Ishibashi 2005 Ferroelectric Thin Films Basic Properties and Device Physics for Memory Applications (New York: Springer) [19] Wu S Y 1974 IEEE Trans. Electron. Dev. ED-21 499 Microelectron. Eng. 85 81 [20] Tataroğlu A, Altındal S¸ , Aydemir U and Uslu H 2010 Optoelectron. Adv. Mat. 4 616 [21] Lin X, Guan Q F, Liu Y and Li H B 2010 Chin. Phys. B 19 107701 [22] Wu Y Y, Wang X H and Li L T 2010 Chin. Phys. B 19 037701 [23] Nicollian E H and Brews J R 1982 MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology (New York: Wiley) [24] Walter T, Herberholz R, Muller C and Schock HW1996 J. Appl. Phys. 80 4411 [25] Nicollian E H and Goetzberger A 1967 Bell. System Tech. J. 46 1055 [26] Yıldırım M, Eroğlu A, Altındal S¸ and Durmus¸ P 2011 J. Optoelectron.Adv. M. 13 98 [27] Chattopadhyay P and Raychaudhuri B 1993 Solid State Electron. 36 605 [28] Dökme˙I and Altındal S¸ 2011 IEEE Trans. Electron Dev. 58 4042 [30] Altındal S¸ and Uslu H 2011 J. Appl. Phys. 109 074503 [31] Uslu H, Dokme ˙I, Afadiyeva I M and Altındal S¸ 2010 Surf. Interface Anal. 42 807 [32] Pakma O, Serin N, Serin T and Altındal S¸ 2009 J. Sol-Gel Sci. Technol. 50 28
Ayrıntılar
Birincil Dil
Türkçe
Konular
Mühendislik
Bölüm
Araştırma Makalesi
Yazarlar
Perihan Durmuş
Gazi Üniversitesi
Türkiye
Yayımlanma Tarihi
30 Haziran 2018
Gönderilme Tarihi
26 Ekim 2017
Kabul Tarihi
14 Aralık 2017
Yayımlandığı Sayı
Yıl 2018 Cilt: 6 Sayı: 2
